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        化學氣相沉積系統每一部工程作品都精雕細琢

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        等離子體增強化學氣相沉積系統CVD

        多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(CVD)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術,主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離,促進化學反應在較低的溫度下進行,從而在基片上沉積出所期望的薄膜。

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          多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(CVD)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術,主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離,促進化學反應在較低的溫度下進行,從而在基片上沉積出所期望的薄膜。


          目前項目團隊自主研發的CVD設備可在多種襯底上(如金屬、氧化物、半導體表面)直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維材料,用于新材料、新器件的研發。工藝簡單廉價,且具有傳統半導體生長工藝的兼容性。

          等離子體增強化學氣相沉積系統CVD等離子體增強化學氣相沉積系統技術參數

        應用案例

          CVD應用——Graphene在任意襯底上的無催化生長

          CVD應用——外延Graphene/BN異質結與摩爾超晶格

          CVD應用——Graphene的各向異性刻蝕技術發展

          CVD應用——Graphene的各向異性刻蝕技術發展2

          CVD應用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調控

          CVD應用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調控2

          CVD應用——外延構筑各種MoS2范德華異質結

          CVD應用——二/四英寸連續單層MoS2 的取向外延生長

          CVD應用——二/四英寸連續單層MoS2 的取向外延生長2

            以上就是安徽澤攸科技有限公司為您介紹的等離子體增強化學氣相沉積系統CVD產品,如果想要了解更多產品信息請咨詢15756003283(微信同號)

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